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삼성전자 반도체 ‘공정 독립’ 첫발... “어닐링 도입, ‘초초격차’ 쾌거”
박정도 전문기자  |  newface0301@naver.com
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승인 2019.07.25  07:51:00
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  사진= 삼성전자  
사진= 삼성전자

[인포스탁데일리=박정도 전문기자] 삼성전자가 오는 9월 양산이 예정된 D램 16나노(1Z) LPDDR5에 레이저 어닐링(annealing) 기술을 도입하는 것이 확인됐다. 그간 외국에 의존된 반도체 공정 국산화의 첫발을 삼성전자가 내딛었다는 평가가 나온다.

25일 최양오 현대경제연구원 고문은 팟캐스트 방송 ‘최양오의 경제토크 by 인포스탁데일리’에 출연해 “삼성전자 반도체 전공정에 어닐링 기술이 도입되는 건 미국과 일본, 유럽의 원천기술을 피해간다는 측면에서 대단한 것”이라며 “‘초격차’가 아닌 ‘초초격차’의 쾌거”라 말했다.

최 고문은 “반도체 어닐링 기술 도입이 중요한 이유는 수율 개선 효과가 크기 때문”이라며 “기존 CMP 기술은 수율이 잘 나오지 않는데, 어닐링 기술을 통해 극표면에만 열처리를 하게 되면 수율이 극도로 좋아진다”고 설명했다.

이어 “이번 기술은 삼성전자 차세대 반도체이자 세계반도체기술협회에서 새 통신 기준인 5G에 최적화됐다고 평가받는 LPDDR5에 적용될 것”이라며 “5G 통신장비에 들어가는 반도체에 어닐링 기술이 도입된다는 건 대단한 기술적 독립이 아닐 수 없다”고 평가했다.

지난 17일 <인포스탁데일리>는 삼성전자가 지난해 11월부터 반도체 전공정에 반도체 레이저 어닐링 과정을 시도하고 있다고 단독 보도했다.

반도체 극표면에 500도에서 1000도 사이의 열을 가하는 이 기술은 기존 반도체 제작 전공정에 새롭게 들어가는 것이다. 이 경우 불순물 확산을 제어할 수 있으며 특히 글로벌 반도체 미세화 공정에 더 유리한 것으로 알려졌다.

이날 방송에 참여한 김종효 인포스탁데일리 센터장은 “그간 어닐링 기술은 화학적 처리 방법을 통해 했는데, 삼성전자가 이번에 아예 새로운 장비와 새로운 기술로 한 것”이라며 “노광공정 등 두 세가지 공정을 빼면 삼성전자와 우리나라가 아예 반도체 공정 자체를 국산화할 수 있는 계기가 된 것으로 중요하다”고 강조했다.

해당 기사를 보도한 이형진 인포스탁데일리 센터장은 “한일 간 무역분쟁 이슈가 터지면서 반도체 제작 필수 물질의 대체재를 쓰지 않는 방법을 취재하는 과정에서 삼성전자의 어닐링 기술 도입을 확인했다”라며 “삼성전자가 지금 시국에 굉장한 기술을 손에 쥔 것으로 보인다”고 말했다.

박정도 전문기자 newface0301@naver.com

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